Home
->  1月開催 電気系セミナー  2月開催 電気系セミナー 

【Live配信セミナー】
ALD法の基礎と良好な膜特性を得るための最適プロセス設計

1月開催 電気系セミナー  更新日:2020年12月 1日
 セミナー番号【102408】2/12 講師1名
★ ALDプロセスにおける成膜速度と膜質改善に向けたポイントを解説

【Live配信セミナー】
ALD法の基礎と良好な膜特性を得るための最適プロセス設計


■ 講師
東京大学 大学院工学系研究科 マテリアル工学専攻 教授,副研究科長 博士(工学) 霜垣 幸浩 氏
■ 開催要領
日 時 :
2021年2月12日(金) 11:00~17:00

会 場 : ZOOMを利用したLive配信 ※会場での講義は行いません
聴講料 :
1名につき50,000円(消費税抜き・資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき45,000円(税抜)〕

※定員になり次第、お申込みは締切となります。

■ Live配信セミナーの受講について
・本講座はZoomを利用したLive配信セミナーです。セミナー会場での受講はできません。

・下記リンクから視聴環境を確認の上、お申し込みください。
 → https://zoom.us/test

・開催日が近くなりましたら、視聴用のURLとパスワードをメールにてご連絡申し上げます。
 セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。

・Zoomクライアントは最新版にアップデートして使用してください。
Webブラウザから視聴する場合は、Google Chrome、Firefox、Microsoft Edgeをご利用ください。

・パソコンの他にタブレット、スマートフォンでも視聴できます。

・セミナー資料はお申込み時にお知らせいただいた住所へお送りいたします。
 お申込みが直前の場合には、開催日までに資料の到着が間に合わないことがあります。ご了承ください。

・当日は講師への質問することができます。可能な範囲で個別質問にも対応いたします。

・本講座で使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止いたします。

本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。
 複数端末から同時に視聴することや複数人での視聴は禁止いたします。

・Zoomのグループにパスワードを設定しています。部外者の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。


プログラム

【講演概要】

 近年,ALDによる薄膜作製が注目を集めている。ALDプロセスは原理的に薄膜の均一性や膜厚制御性・再現性に優れている。
また,装置形状や装置内の流れなどを最適化しなくても,このような優れた特性を得やすいプロセスである。
しかし,同じく化学反応を利用する薄膜形成法であるCVDと比較すればトータルスループットは劣ることが多い。
 本講座では,CVD/ALDプロセスを理解し,最適プロセス設計を目指すための速度論を中心に基礎的な講義を行う。
 ALDプロセス開発を行う方,ALDを利用して薄膜合成を検討されている方の参考となれば幸いである。

1.薄膜作製の基礎と応用概論
 1.1 薄膜の種類と用途
 1.2 薄膜作製の分類 -ウェットプロセス,ドライプロセス(PVD/CVD)-
 1.3 CVDプロセスの活用事例
 1.4 半導体集積回路の微細化と薄膜材料プロセスへの要求
 1.5 ALDプロセスの原理,特徴,応用用途,開発歴史
 1.6 ALE(Atomic Layer Etching)の原理と特徴
2.薄膜作製の速度論
 2.1 真空プロセス,真空蒸着
 2.2 速度論と平衡論
 2.3 輸送現象論 -反応律速と拡散律速―
 2.4 表面反応機構・速度論
 2.5 反応モデルの考え方 -素反応モデルと総括反応モデルー
 2.6 CVDプロセス解析手法 -Micro/Macro Cavity法,ステップカバレッジ解析―
3.ALDプロセスの原理と最適化
 3.1 ALDプロセスの理想と現実
 3.2 ALD Windowと最適化方針
 3.3 ALDプロセスのスループット
 3.4 ALDプロセス解析実例
 3.5 インキュベーションサイクル
 3.6 選択ALDとALEの活用
4.まとめ

【質疑応答】